電子級(jí)高純氣體管路

微電子、光電子和生物制藥等行業(yè)對(duì)傳輸敏感或腐蝕性介質(zhì)的高純、潔凈管道系統(tǒng)一般都采用光亮退火（BA）、酸洗或鈍化（AP）、電解拋光（EP）及真空二次溶解（VIM+VAR）產(chǎn)品電子級(jí)高純氣體管路。

A.電解拋光（Electro-Polished）簡(jiǎn)稱(chēng)EP。通過(guò)電化學(xué)拋光，可以提高表面形態(tài)及結(jié)構(gòu)，使表層實(shí)際面積得到很大程度的減少。表面是一層封閉的、厚厚的氧化鉻膜，能量接近合金的正常水平，同時(shí)介質(zhì)數(shù)量也會(huì)降低--通常適用于電子級(jí)高純氣體。

電解拋光是利用陽(yáng)極處理的方式借由電化學(xué)的原理適當(dāng)?shù)卣{(diào)整電壓、電流、酸液組成、以及拋光時(shí)間。不但可使表面達(dá)到明亮、順滑、潔凈的效果更可提升表面的抗蝕性，故是最佳的亮化表面方法當(dāng)然其成本與技術(shù)也提高。不過(guò)因?yàn)殡娊鈷伖鈺?huì)凸顯鋼管表面的原始狀態(tài)所以若鋼管表面有嚴(yán)重刮傷、孔洞。

B.光亮退火（Bright Annealing）簡(jiǎn)稱(chēng)BA。在加氫或真空狀態(tài)高溫?zé)崽幚?，一方面?nèi)部應(yīng)力，另一方面在管道表面形成一層鈍化膜，以改變形態(tài)結(jié)構(gòu)，減少能量水平，但不會(huì)提高表面粗糙度--通常適用于GN2，CDA，以及非工藝的惰性氣體。

鋼管在抽制的過(guò)程中一定會(huì)需油脂潤(rùn)滑而晶粒也會(huì)因加工而變形。為了避免這個(gè)油脂殘留在鋼管中，除了要清洗鋼管外，尚可利用高溫在高溫退火以消除變形時(shí)，以氬氣充當(dāng)爐內(nèi)氣氛，借由氬與鋼管表面的碳氧結(jié)合燃燒進(jìn)一步清潔鋼管的表面，產(chǎn)生亮面的效果。故這種利用純氬氣退火加熱并快速冷卻以亮化光面的方式叫光輝退火。雖然利用此種方式來(lái)亮化表面可保鋼管充分干凈無(wú)任何外來(lái)污染。但這種表面的明亮度若與其他拋光方式相較機(jī)械、化學(xué)、電解會(huì)有較霧面的感覺(jué)。當(dāng)然其效果也與氬氣的含量與加熱的次數(shù)有關(guān)。

C.酸洗或鈍化（Pickled & Passivated/Chemically Polished）簡(jiǎn)稱(chēng)AP和CP。管道經(jīng)過(guò)酸洗或鈍化，不會(huì)提高表面粗糙度，但可去除表面殘存的顆粒，降低能量水平，但不會(huì)減少介層數(shù)量--通常使用于工業(yè)級(jí)管道。

AP即酸洗處理， 利用硝酸與亞氟酸等酸性溶液來(lái)除去鋼管的氧化層。便宜快速但容易造成晶界腐蝕且內(nèi)外表面較粗糙易有懸浮雜質(zhì)附著。

D.真空二次溶解潔凈管Vim(Vacuum Induction Melting)+Var(Vacuum ArcRemelting)簡(jiǎn)稱(chēng)V+V

為住友金屬公司產(chǎn)品，經(jīng)過(guò)真空狀態(tài)下電弧條件下再次處理，提高了耐腐蝕性及表面粗糙度--通常適用在腐蝕性較強(qiáng)之高純電子級(jí)氣體上，如：BCL3，WF6，CL2，HBr等。

E、即機(jī)械拋光 Mechanical polishing 簡(jiǎn)稱(chēng)MP

常用于鋼管表面的氧化層、孔洞與刮痕其亮度與效果則取決于加工方式的種類(lèi)。另外機(jī)械拋光后，雖較美觀但也會(huì)降低抗蝕性所以當(dāng)用在腐蝕環(huán)境下需再經(jīng)過(guò)鈍化處理，而且鋼管表面常有拋光材料殘留。

F、機(jī)械拉拔(Plug draw）簡(jiǎn)稱(chēng)PD

以塞栓精密冷拔來(lái)提高表面粗糙度，可以提高表面結(jié)構(gòu),但不會(huì)改善形態(tài)結(jié)構(gòu)、能量水平和介層數(shù)量。作為最基本的表面處理工藝，機(jī)械拉拔的粗糙度為其他表面處理工藝奠定了基礎(chǔ)。

G、羽布拋光(Buffed Polished) 簡(jiǎn)稱(chēng)BP

裝飾不銹鋼業(yè)常用的用來(lái)提高表面光亮度的方式，盡管Ra值可能很好，但在電子顯微鏡下可觀察到許多裂縫，實(shí)際表面積擴(kuò)大，局部有分離出來(lái)的鐵素體及馬氏體結(jié)構(gòu)。表面夾雜許多雜質(zhì)，如研磨顆粒。由于使用拋光膏，許多能量被儲(chǔ)存在原先得到凹陷中，使得介質(zhì)數(shù)量也會(huì)增加。這種管道一般不允許使用在微電子、光電子及生物制藥的敏感、腐蝕介質(zhì)中。

H、亞電化學(xué)拋光(Anodical Cleaning) 簡(jiǎn)稱(chēng)AC

歐洲工廠在BA基礎(chǔ)上再進(jìn)行一道表面處理工藝，即輕度電解拋光工藝，以盡可能地減少表層面積，加厚鈍化膜，從而增加耐腐蝕性能、改善表面的形態(tài)結(jié)構(gòu)、減少能量水平。經(jīng)過(guò)這種表面處理方式之后的產(chǎn)品雖然沒(méi)有前面的光亮，但表面質(zhì)量有了很大的提高，不會(huì)產(chǎn)生顆粒，減少表層鐵和氧化鐵的成分。